2纳米的光刻机啊……这绝对是华夏科技历史上，一次重大的突破。
放眼全球。
也没有哪家企业，能够制造出这般精度的光刻机来。
拥有着这光刻机设计图纸后。
华夏完全从拥有着落后的位置，摇身一变，成为世界顶尖。
光刻机是制造半导体芯片的核心设备之一，国内芯片代工企业之所以制造工艺落后，很大的原因在于，生产过程中没有高端光刻机设备支持。
光刻机过于复杂，需要至少10万个部件，很多部件都受到专利保护，制造需要结合整个产业的力量。其实从某种意义上来讲，光刻机并不是一个单一的技术，而是一个技术合集。
虽然最近两年华夏半导体市场喜报连连，不少技术甚至已经达到世界顶尖水准，但就整体实力而言，华夏半导体产业还是处于落后位置。
因为存在技术壁垒的缘故，华夏半导体公司没有办法与海外企业合作，共同研发新技术，只能一点一点的突破，加大投入力度。短期内，其实很难取得亮眼的成绩。
然而有着这图纸在，技术封锁，技术储备不足，没有借鉴和参照物这些问题顿时荡然无存。
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